原子层沉积系统
发布时间：2018-03-24 作者： 来源： 浏览次数：
联系人 |
潘军 |
邮箱 |
jun.pan@csu.edu.cn |
电话 |
18273184694 |
生产厂家 |
Picosun |
型号 |
R-200 |
购买日期 |
2016.12.22 |
主要规格及技术指标
ALD双腔体体结构，腔室可稳定加热至500摄氏度；ALD腔体的极限压强可以达到1-2mbar。
主要功能及特色
表层镀膜，沉积制备薄膜